作者:魏秋平 余志明 马莉 游小龙 丰杰 吴晓斌 刘王平 WEI Qiu-ping YU Zhi-ming
出处:
【关键词】硼化处理沉积气压金刚石薄膜diamond,films预处理方法附着性能场发射扫描电子显微镜热丝化学气相沉积硬质合金基体二步法射线衍射仪膜表面形貌织构压痕法碳源浓度检测分析反应气体沉积温度超高真空薄膜形貌,,
【摘要】采用超高真空热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,以甲烷和氢气为反应气体,在YG13(WC-13%Co)硬质合金基体上沉积金刚石薄膜.用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜进行检测分析,研究YG13经950℃、3 h硼化预处理后沉积气压对金刚石薄膜形貌和生长织构的影响;通过压痕法比较硼化与二步法两种预处理方法对金刚石薄膜附着性能的影响.结果表明,基体经硼化预处理后表面形成CoB、CoW2B2、CoW3B3相;当沉积温度为750~800 ℃,碳源浓度为3.3%时,薄膜表面形貌和生长织构随着沉积气压改变有明显的变化;硼化预处理后所得样品在1 500 N载荷下压痕表现
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